AS 66 E添加于薄膜芯層,建議添加量為0.5-3%;使用AS 66 E能提供給薄膜優(yōu)良的抗靜電特性、極佳的光學(xué)性能和優(yōu)良的印刷性能;
由于抗靜電劑是由薄膜芯層逐漸遷移至表面發(fā)揮作用,遷移速度與薄膜制造及后期加工時(shí)的環(huán)境溫度相關(guān),因此具體添加量可隨薄膜厚度、季節(jié)、抗靜電效果的不同要求而調(diào)整。
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AS 66 E
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AS 66 E添加于薄膜芯層,建議添加量為0.5-3%;使用AS 66 E能提供給薄膜優(yōu)良的抗靜電特性、極佳的光學(xué)性能和優(yōu)良的印刷性能; 由于抗靜電劑是由薄膜芯層逐漸遷移至表面發(fā)揮作用,遷移速度與薄膜制造及后期加工時(shí)的環(huán)境溫度相關(guān),因此具體添加量可隨薄膜厚度、季節(jié)、抗靜電效果的不同要求而調(diào)整。 |