吳法霖1,2,張?zhí)觳?,王永鳳2,鄧賢明2,唐繼海2,林牧春2,孫寬1,張林3,倪士文4
(1.重慶大學(xué)低品位能源利用技術(shù)及系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,重慶400044;2.西南技術(shù)工程研究所,重慶400039;3.上海交通大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,上海200240;4.重慶建設(shè)雅馬哈摩托車有限公司,重慶400052)
摘要:目的 針對聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)/聚(苯乙烯磺酸鹽)(PEDOT:PSS)薄膜的電導(dǎo)率低的問題,采用二次摻雜方法,提高薄膜電導(dǎo)率和品質(zhì)因數(shù)(FoM),為制備可打印導(dǎo)電薄膜以及柔性光電器件表面導(dǎo)電層提供技術(shù)支撐。方法 采用多種無機(jī)酸分別與PEDOT:PSS溶液共混的摻雜方法,通過旋涂法在基底上制備透明導(dǎo)電薄膜。利用四點(diǎn)探針法、分光光度計測試系統(tǒng),對摻雜處理后薄膜的方塊電阻、透光率、導(dǎo)電率和品質(zhì)因數(shù)進(jìn)行測試及分析。利用原子力顯微鏡(AFM)、X射線光電子能譜(XPS)和霍爾效應(yīng)測試系統(tǒng),對薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)進(jìn)行有理分析,總結(jié)了提升薄膜電導(dǎo)率的原因。結(jié)果 無機(jī)酸對薄膜電導(dǎo)率具有提升作用,其中硫酸的摻雜作用后,電導(dǎo)率可以由0.9S/cm提高到2216S/cm,F(xiàn)oM從0.03提高到33;通過焦磷酸摻雜處理后的薄膜,電導(dǎo)率可以提高到1623S/cm,F(xiàn)oM提高到40。結(jié)論 摻雜試劑的沸點(diǎn)、解離常數(shù)、退火溫度以及共混液的粘度都會影響薄膜的光電性能。解離常數(shù)越低,更容易解離出氫離子的摻雜試劑,能夠與PSS結(jié)合形成PSSH,促進(jìn)PEDOT和PSS分離。沸點(diǎn)低和解離常數(shù)小的無機(jī)酸摻雜試劑,能夠有效提高薄膜的電導(dǎo)率,并能夠獲得高品質(zhì)因數(shù)的薄膜。PEDOT:PSS通過無機(jī)酸改性處理后,減小PEDOT和PSS之間作用力的同時,提高薄膜內(nèi)部PEDOT的相對含量,使PEDOT鏈變得線性,促進(jìn)載流子傳輸,從而使薄膜的電導(dǎo)率提高。
關(guān)鍵詞:PEDOT:PSS;無機(jī)酸;薄膜;電導(dǎo)率;品質(zhì)因數(shù)
在當(dāng)今現(xiàn)代生活中,薄膜技術(shù)扮演著越來越重要的角色,自20世紀(jì)80年代以來薄膜技術(shù)也飛速發(fā)展,薄膜技術(shù)在實(shí)際生活中被廣泛應(yīng)用,在科學(xué)研究領(lǐng)域?qū)Ρ∧ば阅芴嵘透男蕴幚硪彩斋@眾多。其中透明導(dǎo)電薄膜由于其透明度高,導(dǎo)電率優(yōu)異,能夠滿足在光電器件中應(yīng)用要求,被大量研究者所關(guān)注[1]。在平板電腦、手機(jī)、觸摸屏、太陽能電池等設(shè)備中,都用到了透明電極[2]。摻錫的In2O3薄膜(ITO),由于其制備工藝簡單,制造成本低以及導(dǎo)電率優(yōu)異等特點(diǎn),被作為電極材料大量使用[3]。ITO在可見光范圍內(nèi)透光率大于85%,作為透明導(dǎo)電材料使用能夠滿足多領(lǐng)域應(yīng)用要求[4,5]。但是ITO薄膜在應(yīng)用中也存在它固有的缺點(diǎn),首先銦是地球上的稀有金屬,導(dǎo)致銦的價格暴漲[6];其次ITO生產(chǎn)工藝為蒸鍍工藝,基底必須為高熔點(diǎn)的硬質(zhì)基板,若在應(yīng)用過程中受外力使ITO薄膜發(fā)生形變,那么ITO薄膜極易斷裂。因此,研究者們在不斷尋求性能更加優(yōu)越的新材料來代替ITO。
圖1.PEDOT和PSS化學(xué)結(jié)構(gòu)式圖[7]
聚(3,4-亞乙基二氧噻吩)(PEDOT)化學(xué)結(jié)構(gòu)如圖1所示,當(dāng)PEDOT單獨(dú)使用時,它是一種良好的導(dǎo)體[8],但是PEDOT溶解性能很差,是一種疏水聚合物,在實(shí)際的應(yīng)用過程中限制較多。為了使PEDOT在更多的領(lǐng)域得到應(yīng)用,使PEDOT能夠形成溶解性強(qiáng)的液態(tài),將其與聚對苯乙烯磺酸根陰離子(PSS)進(jìn)行后期合成處理,能夠得到具有良好水溶性的PEDOT:PSS溶液[9]。PEDOT:PSS懸浮液可以通過多種方法使用,例如旋涂、刮涂和噴涂等方法,在柔性的PET或者硬質(zhì)玻璃基底上形成淡藍(lán)色的透明薄膜。大量研究表明,PEDOT:PSS薄膜機(jī)械性能高,受外力不易破裂;透光率在可見光范圍內(nèi)透光率大于85%[10,11];通過封裝處理,導(dǎo)電性能穩(wěn)定,其方塊電阻在無氧條件下不發(fā)生較大變化。因此PEDOT:PSS懸浮液是眾多替代ITO材料中潛力最大的新型材料。但是PEDOT:PSS懸浮液單獨(dú)使用制備導(dǎo)電薄膜時,其導(dǎo)電率低于1S/cm,不能夠滿足應(yīng)用需求,所以必須找到合適的方法來提高PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率[12]。
目前應(yīng)用較多的是二次摻雜極性溶劑來提高PDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率,如異丙醇、赤蘚醇、丙三醇、乙二醇等都可以大幅提升薄膜的電導(dǎo)率,Zhang等人用85%甘油或65%山梨醇和PEDOT:PSS混合時,可以將PEDOT:PSS的電導(dǎo)率提高到?10S/cm[13]。Ouyang等人通過向PEDOT:PSS溶液里加入赤蘚醇將PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率提高到155S/cm[14]。Ahlswede等人用二甘醇,二甲基亞砜(DMSO),山梨醇對PEDOT:PSS進(jìn)行混合改性,最后使PEDOT:PSS薄膜的電導(dǎo)率由0.9S/cm到300S/cm[15]。Do等人用DMSO進(jìn)一步提高PEDOT:PSS薄膜的電導(dǎo)率,他們用5%體積DMSO和13%體積異丙醇處理PEDOT:PSS薄膜,將薄膜電導(dǎo)率提高到了570S/cm[16]。對PEDOT:PSS導(dǎo)電薄膜后期處理也是可以提高薄膜電導(dǎo)率,Kim等人通過將6%體積比的乙二醇(EG)和PEDOT:PSS溶液混合之后通過旋涂成膜,再將薄膜侵入到EG溶液中,可以使薄膜的電導(dǎo)率提高到1418S/cm[17]。Sun等人提出了用甲磺酸對PEDOT:PSS薄膜進(jìn)行后期處理,單層PEDOT:PSS導(dǎo)電薄膜透光率可達(dá)97%,電導(dǎo)率為1814S/cm[18]。綜上,目前通過二次摻雜處理的薄膜,導(dǎo)電率低于600S/cm,導(dǎo)電率仍然偏低。通過對制備好的薄膜后期處理,可以將導(dǎo)電率提高到1000S/cm以上,但是后期處理方法重復(fù)率低,增加制備工藝和生產(chǎn)成本,不利于工業(yè)中的大規(guī)模制備。
本研究主要采用多種無機(jī)酸分別與PEDOT:PSS溶液摻雜改性的方法,使用旋涂制膜法,獲得不同電導(dǎo)率的PEDOT:PSS薄膜。并采用測試儀器和表征手段對薄膜不同的物化性能進(jìn)行了測試和分析,提升了薄膜的導(dǎo)電率和品質(zhì)因數(shù)的同時,研究了無機(jī)酸在提升薄膜電導(dǎo)率方面起到的促進(jìn)作用,為柔性薄膜制備提供理論基礎(chǔ)和技術(shù)支持。
1實(shí)驗(yàn)
1.1基片清洗方法
(1)將大面積的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)分割成15mm×15mm的基底待用,將基底放于專用固定清洗架上,將專用固定清洗架放于合適大小的燒杯中。
(2)將適量去離子水加入燒杯中,沒過支架上的PET,最后加入5%體積的洗潔劑。燒杯通過錫箔紙進(jìn)行密封處理,用膠圈固定好錫箔紙。將裝有支架的燒杯緩慢放入超聲波清洗器中,超聲波清洗器清洗頻率設(shè)置為50kHz,清洗時長設(shè)置為時10分鐘。
(3)重復(fù)步驟(2)中的步驟三次后,隨后將丙酮倒入沒過PET,進(jìn)行超聲波清洗,超聲波清洗頻率為40kHz時長10分鐘。最后倒出丙酮,使用易揮發(fā)的異丙醇對PET進(jìn)行最后清洗。
(4)超聲波清洗步驟結(jié)束后,倒出異丙醇,用鑷子取出PET基底吹干,放入充滿氮?dú)獾氖痔紫鋬?nèi)部
待用。
1.2 PEDOT:PSS薄膜制備
(1)先將攪拌子放于試劑瓶中,用移液器將適量PEDOT:PSS溶液置于試劑瓶中,將對應(yīng)量的無機(jī)酸通過移液器加入放有PEDOT:PSS的試劑瓶中,蓋好試劑瓶蓋,進(jìn)行混合液的攪拌(3~4分鐘)。
(2)將手套箱內(nèi)的PET取出,在紫外臭氧環(huán)境下預(yù)處理2分鐘,然后將PET基片放置于勻膠機(jī)上,通過真空泵吸附于轉(zhuǎn)盤中心處,用移液器將改性后PEDOT:PSS混合液滴加在PET基片上均勻覆蓋。設(shè)置勻膠機(jī)二級程序,先通過1500r/min轉(zhuǎn)速,甩膜50秒;再用4000r/min轉(zhuǎn)速,甩膜2秒。取下覆蓋混合液的PET基片放置于恒溫加熱板臺上,烘烤10min;烘烤結(jié)束后,自然冷卻至室溫,得到改性后的高導(dǎo)電率PEDOT:PSS薄膜。
1.3薄膜性能測試
(1)方塊電阻的測試:首先使用Keithley 2400 sourc emeter儀器,采用四點(diǎn)探針法,設(shè)置合適的測量范圍,測試薄膜的電阻R1和R2,方塊電阻的計算可由公式(1)得出:
(1)
其中F為修正因子,與R1和R2的大小有關(guān)。因本研究測試的R1和R2數(shù)值接近,取F=1。
(2)電導(dǎo)率的測試:電導(dǎo)率的測試主要是通過薄膜厚度和方塊電阻的測量,經(jīng)公式計算得出。首先使用Dektak XT臺階儀,測試薄膜的厚度D;再使用島津UV-3800分光光度計,設(shè)置測試波長220nm~1100nm,測試精度1nm,測試可得薄膜的透光率T。電導(dǎo)率(? )計算公式可由公式(2)得出:
(2)
其中L1代表薄膜長度,L2代表薄膜寬度,R代表薄膜電阻,D代表薄膜厚度。因本研究制備的薄膜為正方
形樣品,因此L1=L2,電導(dǎo)率可由公式(2)簡化得到(3):
(3)
(3)霍爾系數(shù)測試:霍爾系數(shù)的測試采用德國Phystech RH2035霍爾效應(yīng)測試儀器。首先輸入測試樣品厚度D,再選擇樣品類型為有機(jī)導(dǎo)電材料,然后設(shè)置磁場強(qiáng)度為0.43T,最后將樣品按要求放置。如圖2所示,樣品先放置于樣品支架,使四個探針接觸樣品膜的四個角,再使用卡扣將支架固定,最后將樣品支架按指定方向放入測試裝置中。測試可得到薄膜樣品的電阻率、霍爾系數(shù)、載流子濃度、載流子遷移率。
樣品固定 樣品支架固定 支架放入測試腔
圖2.霍爾系數(shù)測試過程
2.結(jié)果與討論
2.1 PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率的提高
PEDOT:PSS薄膜的厚度越大,透光率更小,厚度的大小又與薄膜的方塊電阻有關(guān),所以不能用單一個物理量來衡量薄膜的品質(zhì)。為了更好的反應(yīng)出薄膜的綜合性能,這里引入薄膜品質(zhì)因數(shù)FoM。FoM物理意義是直流電導(dǎo)率(?dc)與光學(xué)電導(dǎo)率(?op)比值,表示符號?dc/?op。FoM可以綜合評價導(dǎo)電薄膜的性能,是評估透明導(dǎo)電薄膜的單一參數(shù)。FoM與導(dǎo)電薄膜透光率(T)和方塊電阻(Rs)的關(guān)系由(4)公式可得出[19,20]:
其中Zo代表自由空間的阻抗定義為377Ω。通常薄膜能夠用于大規(guī)模制備或者商業(yè)化使用,F(xiàn)oM必須大于35[21]。
如圖3(a)所示,在加入硫酸之前,PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率只有0.9S/cm,F(xiàn)oM為0.03。隨著硫酸濃度增大,PEDOT:PSS薄膜的電阻減小,當(dāng)硫酸濃度為0.08mol/L時,PEDOT:PSS薄膜的電阻減小到16Ω/sq,在550nm處的透光率為54.8%,電導(dǎo)率增加到2216S/cm。隨著硫酸濃度進(jìn)一步增大,電導(dǎo)率減小,這是由于硫酸的增加使得溶液粘稠,成膜的質(zhì)量下降,薄膜表面出現(xiàn)裂紋,使得薄膜的方塊電阻增大到25Ω/sq。測試結(jié)果顯示硫酸的摻雜可以將PEDOT:PSS薄膜的電導(dǎo)率提高四個數(shù)量級,但是相對于傳統(tǒng)的ITO薄膜透光率在90%以上而言,其薄膜的透光率仍然較低,不能達(dá)到應(yīng)用要求。為了進(jìn)一步提升薄膜的品質(zhì),采用粘度更低的H3PO4來提高PEDOT:PSS薄膜的性能。如圖3(b)所示,當(dāng)H3PO4在0.8mol/L時,電導(dǎo)率達(dá)到最大1198S/cm。雖然H3PO4處理后的薄膜方塊電阻比H2SO4處理后的高,但是由于H3PO4處理后薄膜透光率仍能夠達(dá)到87%,所以H3PO4摻雜后薄膜FoM高于H2SO4摻雜的薄膜,F(xiàn)oM能夠達(dá)到39。為了更好的研究無機(jī)酸對薄膜電導(dǎo)率提升的原理,采用相同的制膜方法,分別用H3PO3、H4P2O7、HClO4、HNO3和HPF6對PEDOT:PSS進(jìn)行了摻雜處理,摻雜后PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率變化趨勢如圖4所示。在每種摻雜試劑最優(yōu)條件下,測試薄膜厚度、方塊電阻以及透光率,結(jié)果如表1所示。
表1多種無機(jī)酸摻雜后PEDOT:PSS薄膜的性能數(shù)據(jù)
無機(jī)酸的加入能夠很好地提升薄膜的電導(dǎo)率和FoM。其中H2SO4對電導(dǎo)率提升最大,將電導(dǎo)率提升四個數(shù)量級達(dá)到2216S/cm,其次是H3PO3將電導(dǎo)率提升到2033S/cm。薄膜的品質(zhì)因數(shù)受薄膜厚度、透光率和薄膜成膜質(zhì)量的共同作用,H4P2O7和PEDOT:PSS共混后制得薄膜其透光率為82%,薄膜FoM能夠達(dá)到40,這種高品質(zhì)因數(shù)薄膜具有較大的商用潛力。薄膜電導(dǎo)率的提高主要是由于方塊電阻的減小,加入0.08mol/LH2SO4后,方塊電阻降低了四個數(shù)量級,減小到了16Ω/sq。未摻雜PEDOT:PSS薄膜厚度為89nm,在H2SO4摻雜處理后,薄膜厚度增加到276nm,厚度的增加使得薄膜的透光率降到了55%。使用0.16mol/LHPF6摻雜之后,由于薄膜厚度為103nm,所以透光率仍然較高,能夠達(dá)到88%,但是薄膜方塊電阻為321Ω/sq,其電導(dǎo)率只能夠提升到302S/cm。
2.2無機(jī)酸化學(xué)性能對PEDOT:PSS薄膜性能的影響
為了更好的了解摻雜試劑對于薄膜性能影響的關(guān)鍵因數(shù),調(diào)研了每種摻雜試劑的化學(xué)性能,如表2所示。從H2SO4、H3PO3、H4P2O7、H3PO4的摻雜處理后薄膜的電導(dǎo)率來看,電導(dǎo)率的提高隨著解離常數(shù)(PKa)值的增大而減小。因?yàn)镻Ka越小,摻雜試劑更能夠解離出氫離子,氫離子的解離能夠減小PEDOT和PSS的作用力,從而消除了PSS對PEDOT包裹,使彎曲的PEDOT導(dǎo)電鏈變得更加線性,導(dǎo)電更容易。電導(dǎo)率不僅受PKa的影響,還受摻雜混合液濃度的影響,例如HClO4的PKa值為-10,但是HClO4摻雜后薄膜電導(dǎo)率只能夠提高到760S/cm。這是因?yàn)閾诫sHClO4后混合液濃度增大,使制備薄膜厚度增大(361nm),厚度與電導(dǎo)率成反比,使得電導(dǎo)率降低。HNO3和H2SO4具有相近的PKa值,但是對于PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率的提升具有不同的效果,這與摻雜試劑沸點(diǎn)有很大關(guān)系。因?yàn)镠2SO4的沸點(diǎn)為338℃,退火溫度為150℃,退火后的H2SO4仍然滯留在薄膜內(nèi)部,能夠起到很好的電導(dǎo)率提升作用。HNO3的沸點(diǎn)為122℃,薄膜退火溫度為120℃,退火處理時部分HNO3迅速蒸發(fā),電導(dǎo)率不能夠最大程度提高。因此,用酸的改性作用來提高PEDOT:PSS薄膜的電導(dǎo)率,優(yōu)選沸點(diǎn)低和解離常數(shù)小的類型,效果最佳。
表2摻雜劑的化學(xué)性質(zhì)和薄膜的烘干溫度
2.3 PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率提升機(jī)理分析
為了更好的了解無機(jī)酸的摻雜對于PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率的影響,選取了FoM最高的H4P2O7摻雜樣品和成膜質(zhì)量較好的FoM低的HPF6摻雜樣品進(jìn)行了AFM表征。結(jié)果如圖5所示,a、b和c為薄膜相位圖,d、e和f為薄膜形貌圖。在相位圖中,較亮和較暗相位分別對應(yīng)于薄膜中導(dǎo)電的PEDOT和絕緣的PSS部分[22]。圖5a和b所示,含有PEDOT的導(dǎo)電顆粒和含有PSS的絕緣顆粒在原始PEDOT:PSS膜中均勻混合在一起,表面均勻度高。PEDOT鏈被PSS鏈包裹并卷繞成納米顆粒,均方根粗糙度(Rrms)為1.151nm。通過圖5e可以看出,經(jīng)過HPF6摻雜的薄膜,明亮的區(qū)域面積增大,說明PEDOT形成聚集的狀態(tài),其Rrms也增大到1.557nm。如圖5f所示,通過H4P2O7摻雜的薄膜PEDOT面積也增大,相位圖紋路更加清晰。如圖5c所示,纖維狀結(jié)構(gòu)更加明顯,這就表明在經(jīng)過摻雜處理后PEDOT和PSS發(fā)生了相的分離,PEDOT鏈發(fā)生了變化,從卷曲環(huán)狀結(jié)構(gòu)變?yōu)榫€性的纖維狀結(jié)構(gòu),增加了導(dǎo)電的接觸點(diǎn),促進(jìn)了載流子的傳輸。
圖5a和d是PEDOT:PSS薄膜圖像,b和e是HPF6改性后薄膜圖像,c和f是H4P2O7改性后薄膜的圖像
如果在摻雜處理后PEDOT和PSS發(fā)生了分離,那么薄膜中的PEDOT與PSS的相對含量將發(fā)生變化。因此,對薄膜進(jìn)行了XPS的測試。在XPS表征中結(jié)果中,位于166eV和172eV范圍內(nèi)的特征曲線,是PSS中的硫原子的特征峰[23],而162eV和166eV之間的特征曲線,是PEDOT的特征峰[24]。因此通過計算峰的面積大小,可以反應(yīng)出PEDOT和PSS之間的相對含量。如圖6所示,通過計算可知未經(jīng)摻雜的PEDOT:PSS薄膜PEDOT和PSS峰值強(qiáng)度比值為0.34。通過HPF6摻雜處理的樣品,PEDOT和PSS峰值強(qiáng)度比為0.36;經(jīng)過H4P2O7摻雜后的樣品,通過計算PEDOT和PSS之間的峰相對強(qiáng)度比為0.40。經(jīng)過H4P2O7和HPF6摻雜后的薄膜,PEDOT的相對含量增加,說明經(jīng)過摻雜處理PEDOT和PSS發(fā)生了分離,造成部分PSS脫離薄膜。同時AFM表征結(jié)果也表明摻雜薄膜表面纖維狀結(jié)構(gòu)增加,其表面粗糙度變大。因此,可以說明無機(jī)酸的摻雜,使PSS和氫離子結(jié)合形成氫鍵作用,使被PSS包裹的PEDOT釋放出來,促進(jìn)了PEDOT聚集和趨向線性結(jié)構(gòu)變化,形成了纖維狀結(jié)構(gòu)。
圖6對PEDOT:PSS薄膜、H4P2O7和HPF6摻雜處理后薄膜S2p掃描
為了驗(yàn)證PSS結(jié)合能發(fā)生了變化,對樣品進(jìn)行了氧原子XPS的掃描。PEDOT中氧原子在XPS測試結(jié)果中對應(yīng)533eV的峰[25],PSS中氧原子在XPS掃描結(jié)果中對應(yīng)特征峰在531.5eV位置[26]。如圖7所示,通過H4P2O7摻雜處理后的薄膜,PEDOT中標(biāo)特征峰位置偏移到533.2eV位置;PSS中特征峰位置偏移到532eV位置。HPF6處理后的薄膜PEDOT對應(yīng)的峰值沒有發(fā)生明顯變化,PSS中氧原子所對應(yīng)的峰的位置變?yōu)?32eV。綜上,通過HPF6和H4P2O7摻雜后的薄膜,PSS對應(yīng)峰值都增大了0.5eV,而PEDOT對應(yīng)峰值變化小??梢哉f明PSS與來自摻雜酸的氫離子結(jié)合改變了其結(jié)合能,PSS與氫離子結(jié)合會削弱PSS與PEDOT之間的庫倫作用力,促進(jìn)了PSS和PEDOT發(fā)生相對分離,這個結(jié)果和S2p的測試結(jié)果保持一致。
圖7對PEDOT:PSS薄膜、H4P2O7和HPF6摻雜處理后薄膜O1S掃描
為了進(jìn)一步了解電導(dǎo)率提升的原因,對摻雜后的薄膜進(jìn)行了霍爾效應(yīng)測試,結(jié)果如表3所示。通過摻雜劑處理,薄膜的電阻率下降,其中H4P2O7摻雜后薄膜的電阻降低了三個數(shù)量級,HPF6將電阻率降低一個數(shù)量級,電阻率的下降和表1中四點(diǎn)法測試的樣品方塊電阻結(jié)果保持一致。H4P2O7摻雜處理后的薄膜載流子濃度從3.2×1019cm-3增加到6.2×1021cm-3,HPF6摻雜后薄膜的載流子濃度從3.2×1019cm-3增加到5.4×1019cm-3,因此H4P2O7摻雜的樣品在電導(dǎo)率提高方面優(yōu)勢更為明顯。載流子濃度的增加也意味著摻雜后薄膜的導(dǎo)電區(qū)域增大,說明了摻雜后PEDOT與PSS發(fā)生了分離,促進(jìn)了PEDOT聚集,這與AFM表征結(jié)果保持一致。通過H4P2O7和HPF6摻雜處理的薄膜載流子遷移率由原來的0.4cm2/Vs增加到1.6cm2/Vs和1.9cm2/Vs,意味著載流子傳輸更容易,這與摻雜后薄膜PEDOT線性變化有關(guān)。摻雜處理后PEDOT從原來卷曲結(jié)構(gòu)變?yōu)榫€性結(jié)構(gòu),線性結(jié)構(gòu)的形成增加了PEDOT接觸點(diǎn),因此增強(qiáng)了導(dǎo)電性能,這與XPS和AFM表征分析結(jié)果也保持一致。
表3薄膜霍爾效應(yīng)測試結(jié)果
3.結(jié)論
1)采用H2SO4摻雜試劑,將PEDOT:PSS薄膜的電導(dǎo)率從0.9S/cm提高到2216S/cm;采用H4P2O7摻雜試劑,將PEDOT:PSS薄膜的品質(zhì)因數(shù)從0.03提高到40,提升了PEDOT:PSS薄膜商用價值。
2)研究了多種無機(jī)酸對于薄膜光電性能的提升,摻雜試劑的PKa值、沸點(diǎn)以及粘度都會影響改性后PEDOT:PSS薄膜的光電性能,采用低沸點(diǎn)和低PKa值得摻雜試劑,能夠有效提高薄膜電導(dǎo)率和FoM。
3)表征結(jié)果顯示,PEDOT:PSS薄膜電導(dǎo)率的提升,一方面是無機(jī)酸的摻雜使PEDOT與PSS的分離,使導(dǎo)電的PEDOT集聚,增強(qiáng)了載流子濃度;另一方面,PEDOT和PSS相的分離使卷曲的PEDOT鏈得以線性變化,形成纖維狀結(jié)構(gòu),增加了導(dǎo)體的接觸點(diǎn),使載流子傳導(dǎo)更容易,增強(qiáng)了載流子遷移率。
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